摘要

光学镜片ITO镀膜加工中，残留的有机和颗粒污垢会影响镀层质量。邦普化学LF-631低泡非离子表面活性剂可快速去除有机污垢且耐碱；ZX-727A、FSJ-10分散剂可剥离颗粒，防止污垢再沉积。

关键词：光学镜片ITO镀膜；颗粒污垢清洗；低泡表面活性剂；分散剂

在光学镜片ITO镀膜加工流程中，经过切割与抛光工序后，镜片表面不可避免地会残留有机污垢和颗粒污垢，影响后续加工。选择适配性良好、清洗效果出众的表面活性剂构建高效的清洗体系，是保障镜片加工质量的关键。

切割与抛光过程中使用的加工液、润滑剂等会残留在镜片表面，这类污垢若残留至镀膜阶段，会破坏镀层与镜片表面的结合力。邦普化学LF-631作为低泡非离子表面活性剂，能快速渗透至有机污垢与镜片表面的结合界面，有效剥离去除表面的加工油，实现对有机污垢的高效清洗。同时，该产品具备出色的耐强碱性能，可稳定应用于强碱清洗体系中，即便在强碱性环境下，仍能保持优异的除油活性，确保清洗效果不受环境因素干扰。

在玻璃切割与抛光过程中产生的氧化铈、二氧化硅磨粉等颗粒污垢，会影响镀膜质量。针对此类颗粒污垢，ZX - 727A分散剂具备卓越的分散剥离能力，能够削弱颗粒与镜片表面的吸附力，促使颗粒污垢迅速从镜片表面剥离，并稳定分散于清洗液中。

FSJ - 10分散剂凭借其超强的分散性能，进一步提升了清洗体系对颗粒污垢的处理能力。它能够将已剥离的颗粒污垢均匀分散于清洗液中，形成稳定的分散体系，避免颗粒在清洗过程中重新沉积，确保镜片表面达到极高的洁净度，为ITO镀层的均匀沉积创造理想的表面条件。